炒股配资找配资i ,我国湿电子化学品行业现状：半导体等下游需求大 市场规模超过百亿

一、概述

湿电子化学品是微电子、光电子湿法工艺制程中使用的各种液体化工材料，广泛用于半导体、显示面板、光伏、LED 等电子元器件微细加工的清洗、光刻、显影、蚀刻、掺杂等工艺环节配套使用，是半导体、显示面板、光伏等制作过程中不可缺少的关键性材料之一。

根据观研报告网发布的《中国湿电子化学品市场发展态势分析与投资战略预测报告（2023-2030年）》显示，从大类来分，一般可划分为通用湿电子化学品和功能湿电子化学品。根据中国电子材料行业协会数据，通用湿电子化学品占比88.2%，其中过氧化氢占比16.7%，氢氟酸占比16%，硫酸占比15.3%，硝酸占比14.3%。功能湿电子化学品占比11.8%，其中MEA等极性溶液占比3.2%，显影液（半导体用）占比2.7%，蚀刻液（半导体用）占比2.2%。

湿电子化学品分类

大类小类具体产品通用湿电子化学品酸类氢氟酸、硫酸、磷酸、硝酸、乙酸、乙二酸等碱类氢氧化铵、氢氧化钾、氢氧化钠等有机溶剂类甲醇、乙醇、丙酮、丁酮、乙酸乙酯、甲苯等其他类过氧化氢等功能湿电子化学品复配类化学品显影液、剥离液、清洗液、蚀刻液、稀释液等

数据来源：观研天下

湿电子化学品分类作用及占比

类别名称作用占湿电子化学品总需求比例合计占比通用湿电子化学品过氧化氢清洗、腐蚀剂，可与浓硫酸、硝酸、氫氟酸、氢氧化铵等配制使用，在集成电路制程应用较多16.7%88.2%氢氟酸强酸性清洗、腐蚀剂，可与硝酸、冰醋酸、过氧化氢及氢氧化铵等配制使用16.0%硫酸强酸性清洗、腐蚀剂，在集成电路制程应用最多15.3%硝酸酸性清洗、腐蚀剂，可与冰乙酸、过氧化氢配制使用14.3%磷酸超纯磷酸为酸性腐蚀剂，主要用于超大规模集成电路工艺技术的生产8.7%盐酸酸性清洗、腐蚀剂，可与过氧化氢配制使用，可有效降低金属杂质4.8%氢氧化钾用于氧化物蚀刻3.8%氨水碱性清洗、腐蚀剂，可与过氧化氢、水、氢氟酸配制使用3.7%异丙酮用作电子清洁剂2.8%醋酸用作铝等蚀刻液1.9%功能湿电子化学品MEA等极性溶液用于半导体清洗3.2.8%显影液（半导体用）光刻胶曝光后显影剂2.7%蚀刻液（半导体用）硅、金属层蚀刻2.2%显影液（面板用）光刻胶曝光后显影剂1.6%剥离液（半导体用）剥离液通常用在蚀刻工艺完成之后，用于去除光刻胶和残留物质，同时防止对下层的衬底层造成损坏1.2%缓冲蚀刻液（BOE）主要用于蚀刻二氧化硅（SiO2）或氮化硅（Si3N4）的薄膜0.9%

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二、发展现状

湿电子化学品的纯度和洁净度对电子元器件的成品率、电性能和可靠性有十分重要的影响。近年来，我国湿电子化学品行业市场规模呈稳步增长态势。根据数据显示，2021年，我国湿电子化学品行业市场规模达到137.8亿元，2015-2021年的年复合增长率为14.6%。

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需求方面，目前，湿电子化学品行业主要应用于半导体、平板显示、太阳能电池等领域。近年来，随着半导体、太阳能电池等产业快速发展，带动我国湿电子化学品行业需求稳步增长。根据数据显示，2021年，我国湿电子化学品需求量为213.5万吨，预计2025年需求量将达到369.6万吨。其中，2021年湿电子化学品行业的半导体领域需求量70.3万吨，光伏需求量65.4万吨；预计到2025年半导体需求量106.9万吨，光伏需求量113.1万吨。

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具体从细分应用市场来看，

1、半导体领域

湿电子化学品在主要应用于半导体加工的硫酸、双氧水、氨水等。其中，需求量最大的是硫酸，使用量占比32.8%，其次是双氧水，使用量占比28.1%。随着半导体产业快速发展，集成电路用湿电子化学品市场规模也不断扩大，2021年达到52.1亿元。

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2、显示面板领域

在显示面板领域，湿电子化学品在磷酸、硝酸、MEA等极性溶液等领域需求较大。具体从需求结构来看，磷酸对湿电子化学品需求占比为41.3%，硝酸对湿电子化学品需求占比为24.06%，MEA等极性溶液对湿电子化学品需求占比为15.8%。市场规模方面，根据数据显示，截止2021年，我国显示面板用湿电子化学品市场规模为62.3亿元，预计到2025年将达到126.5亿元。

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